M
M. Veillerot
H指数:17
被引数:1,423
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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高分辨率阴极发光成像用于GaN外延层中宽浓度范围硅掺杂定量分析
Nano Letters
IF9.1
氨基酸的物理化学性质及化学功能化表面对DIOS-MS分析的影响
通过iCVD实现高纵横比硅通孔的晶圆级绝缘
ACS OMEGA
IF4.3
通过引发的化学气相沉积用聚合物填充纳米孔
暂无内容
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高分辨率阴极发光成像用于GaN外延层中宽浓度范围硅掺杂定量分析
氨基酸的物理化学性质及化学功能化表面对DIOS-MS分析的影响
通过iCVD实现高纵横比硅通孔的晶圆级绝缘
通过引发的化学气相沉积用聚合物填充纳米孔