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收藏The 2016 oxide electronic materials and oxide interfaces roadmap
Lorenz, M.; Rao, M. S. Ramachandra; Venkatesan, T.; Fortunato, E.; Barquinha, P.; Branquinho, R.; Salgueiro, D.; Martins, R.; Carlos, E.; Liu, A.; Shan, F. K.; Grundmann, M.; Boschker, H.; Mukherjee, J.; Priyadarshini, M.; DasGupta, N.; Rogers, D. J.; Teherani, F. H.; Sandana, E. V.; Bove, P.; Rietwyk, K.; Zaban, A.; Veziridis, A.; Weidenkaff, A.; Muralidhar, M.; Murakami, M.; Abel, S.; Fompeyrine, J.; Zuniga-Perez, J.; Ramesh, R.; Spaldin, N. A.; Ostanin, S.; Borisov, V.; Mertig, I.; Lazenka, V.; Srinivasan, G.; Prellier, W.; Uchida, M.; Kawasaki, M.; Pentcheva, R.; Gegenwart, P.; Granozio, F. Miletto; Fontcuberta, J.; Pryds, N.
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收藏Pulsed laser deposition of TiO2 for MOS gate dielectric
Paily, R; DasGupta, A; DasGupta, N; Bhattacharya, P; Misra, P; Ganguli, T; Kukreja, LM; Balamurugan, AK; Rajagopalan, S; Tyagi, AK
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