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收藏Control of electron velocity distributions at the wafer by tailored voltage waveforms in capacitively coupled plasmas to compensate surface charging in high-aspect ratio etch features通过电容耦合等离子体中的定制电压波形来控制晶片上的电子速度分布,以补偿高纵横比蚀刻特征中的表面充电
Hartmann, P.; Wang, L.; Noesges, K.; Berger, B.; Wilczek, S.; Brinkmann, R. P.; Mussenbrock, T.; Juhasz, Z.; Donko, Z.; Derzsi, A.; Lee, Eunwoo; Schulze, J.
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收藏Charged particle dynamics and distribution functions in low pressure dual-frequency capacitively coupled plasmas operated at low frequencies and high voltages在低频和高压下工作的低压双频电容耦合等离子体中的带电粒子动力学和分布函数
Hartmann, P.; Wang, L.; Noesges, K.; Berger, B.; Wilczek, S.; Brinkmann, R. P.; Mussenbrock, T.; Juhasz, Z.; Donko, Z.; Derzsi, A.; Lee, Eunwoo; Schulze, J.
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