未登录
分享
收藏Production of NO in nitrogen-based active screen plasma nitriding devices, a disadvantage or an opportunity?
Czerwiec, T.; Carrivain, O.; Masieiro, M.; Hugon, R.; Cardinaud, C.; Belmonte, T.; Noel, C.; Cardoso, R. P.; Marcos, G.
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏Etching of iron and iron-chromium alloys using ICP-RIE chlorine plasma
Le Dain, Guillaume; Laourine, Feriel; Guilet, Stephane; Czerwiec, Thierry; Marcos, Gregory; Noel, Cedric; Henrion, Gerard; Cardinaud, Christophe; Girard, Aurelie; Rhallabi, Ahmed
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏Multiscale analysis of an ODS FeAl40 intermetallic after plasma-assisted nitriding
Martin, J.; Martinavicius, A.; Bruyere, S.; Van Landeghem, H. P.; Gendarme, C.; Danoix, F.; Danoix, R.; Redjaimia, A.; Grosdidier, T.; Czerwiec, T.
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏