A
Akula Umamaheswara Rao
H指数:11
被引数:230
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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通过He-N2介导的反应磁控溅射制备高性能VN涂层:一项工艺-结构-性能研究
探索金属氧化物异质结构在下一代气体传感器中的作用:聚焦于NH3、H2S和NO2气体
探索衬底温度在调控溅射沉积WO3薄膜气体传感性能中的作用
Physica Scripta
IF2.6
采用创新的溅射方法制备具有优异机械性能和自润滑特性的VN涂层

