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收藏Optimization and defect control in photoresist etch back processes for advanced semiconductor technologies雷, T.; 刘, Z.; 刘, Z.; 薛, G.; 孙, C.; 周, J.; 苗, X. 先进半导体技术中光刻胶回蚀工艺的优化与缺陷控制. 半导体学报, 2026, 47, 032102. [Google Scholar] [CrossRef]
Ting Lei; Zhehong Liu; Zhiwen Liu; Guangjie Xue; Chun Sun; Jun Zhou; Xiangshui Miao
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