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C
Chung-En Tsai
National Taiwan University
10
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43
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2
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IF
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Rapid thermal process driven intra-die device variations
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
IF
4.6
2022-12-01
1
OA
AI
Tsai, C. H.; Aboy, M.; Pelaz, L.; Hsu, Y. H.; Woon, W. Y.; Timans, P. J.; Lee, C. K.
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Achieving junction stability in heavily doped epitaxial Si:P
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
IF
4.6
2021-06-01
9
OA
AI
Tsai, C. H.; Hsu, Y. H.; Santos, I.; Pelaz, L.; Kowalski, J. E.; Liou, J. W.; Woon, W. Y.; Lee, C. K.
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合作学者
合作期刊
C
Chih‐Kung Lee
H 指数: 25 · 论文数: 247
L
Lourdes Pelaz
H 指数: 24 · 论文数: 215
W
Wei‐Yen Woon
H 指数: 22 · 论文数: 110
Y
Yu‐Hsiang Hsu
H 指数: 19 · 论文数: 149
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Iván Santos
H 指数: 16 · 论文数: 91
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