未登录Explainable integration of process and optical parameters for plasma etch depth prediction解释性工艺与光学参数的集成用于等离子体刻蚀深度预测
Myung, Jihoon; Go, Eunseo; Cho, Donghyun; Ko, Minkyung; Jeon, Nari; Kim, Jaehyun; Hahn, Bongsu; Jung, Yongsu; Kim, Hyeong-U; Kim, Jaekwang
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