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R
R. Vallat
universite de montpellier
8
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30
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388
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3
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IF
被引数
Self-assembled monolayers as inhibitors for area-selective deposition: A novel approach towards resist-less EUV lithography
自组装单分子层作为区域选择性沉积的抑制剂: 无抗蚀剂EUV光刻的新方法
APPLIED SURFACE SCIENCE
IF
6.9
2022-12-01
8
OA
AI
Lodha, Jayant K.; Pollentier, Ivan; Conard, Thierry; Vallat, Remi; De Gendt, Stefan; Armini, Silvia
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Topographically selective deposition
APPLIED PHYSICS LETTERS
IF
3.6
2019-01-28
14
PRE
AI
Chaker, A.; Vallee, C.; Pesce, V.; Belahcen, S.; Vallat, R.; Gassilloud, R.; Posseme, N.; Bonvalot, M.; Bsiesy, A.
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A bifunctional luminescent single-ion magnet: towards correlation between luminescence studies and magnetic slow relaxation processes
CHEMICAL COMMUNICATIONS
IF
4.2
2012-01-01
168
PRE
AI
Long, Jerome; Vallat, Remi; Ferreira, Rute A. S.; Carlos, Luis D.; Almeida Paz, Filipe A.; Guari, Yannick; Larionova, Joulia
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合作学者
合作期刊
L
Luís D. Carlos
H 指数: 89 · 论文数: 992
R
Rute A. S. Ferreira
H 指数: 66 · 论文数: 664
C
C. Vallée
H 指数: 55 · 论文数: 533
F
Filipe A. Almeida Paz
H 指数: 55 · 论文数: 1.0K
S
Stefan De Gendt
H 指数: 52 · 论文数: 1.0K
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