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K. L. Vanheusdan

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1H指数
2论文数
77被引数
收录论文 1
发表时间
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Interfacial hardness enhancement in deuterium annealed 0.25 mu m channel metal oxide semiconductor transistors
errAPPLIED PHYSICS LETTERS
IF3.6
err1997-06-02
err68
PREAI
errDevine, RAB; Autran, JL; Warren, WL; Vanheusdan, KL; Rostaing, JC
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研究方向

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合作学者
合作期刊
W
W. L. Warren
H 指数: 57 · 论文数: 284
R
R. A. B. Devine
H 指数: 43 · 论文数: 338
J
J. C. Rostaing
H 指数: 12 · 论文数: 26
J
Jean‐Luc Autran
H 指数: 0 · 论文数: 0
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