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J
Jung Yun Choi
Samsung Electronics
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Accurate Layout-Dependent Effect Model in 10 nm-Class DRAM Process Using Area-Efficient Array Test Circuits
IEEE ACCESS
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3.6
2023-01-01
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OA
AI
Kim, Seyoung; Yang, Seungho; Lim, Hyein; Lee, Hyein; Jeon, Jongwook; Choi, Jung Yun; Kim, Jaeha
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合作学者
合作期刊
J
Jaeha Kim
H 指数: 25 · 论文数: 183
J
Jongwook Jeon
H 指数: 19 · 论文数: 136
S
Seung-Ho Yang
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