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Ventzek, Peter

tokyo electron ltd

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Designing pulsed plasma etch processes by genetic algorithm基于遗传算法的脉冲等离子体刻蚀工艺设计
errJOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A
IF2.1
err2026-05-01
err0
PREAI
errConlin, Patrick; Sridhar, Shyam; Ventzek, Peter
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研究方向

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合作学者
合作期刊
P
Patrick Conlin
H 指数: 9 · 论文数: 32
S
Shyam Sridhar
H 指数: 8 · 论文数: 27
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