S
Siwei Dai
H指数:5
被引数:193
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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利用原位STEM加热技术观察受顶电极影响的Hf0.5Zr0.5O2薄膜中的相变
FUNDAMENTAL RESEARCH
IF6.3
坚固稳定的铁电极化状态可在HfO2-Based铁电场效应晶体管中实现长期非易失性存储以抵抗辐射
用于高密度3D存储器应用的硅上均匀铁电Hf0.5Zr0.5O2薄膜的取向无关生长
HfO2-based铁电场效应晶体管中的稳定中间存储状态

