J
Ji Hyeon Choi
H指数:4
被引数:103
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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通过原子层沉积调控缺陷和界面工程实现高性能顶栅SnO<sub>2</sub>晶体管
通过共振非弹性软X射线散射揭示的TiO2中的局域和非局域电子态
ADVANCED SCIENCE
IF14.1
使用原子层沉积法外延生长用于电极的NbN薄膜
原子层沉积膜中的界面: 机遇与挑战
SMALL SCIENCE
IF8.3
暂无内容
暂无内容
暂无内容
暂无内容
通过原子层沉积调控缺陷和界面工程实现高性能顶栅SnO<sub>2</sub>晶体管
通过共振非弹性软X射线散射揭示的TiO2中的局域和非局域电子态
使用原子层沉积法外延生长用于电极的NbN薄膜
原子层沉积膜中的界面: 机遇与挑战