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Foerster, C.

bosch

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Defect reduction in SiC epilayers by different substrate cleaning methods
errMATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
IF4.6
err2022-03-01
err9
PREAI
errBaierhofer, D.; Thomas, B.; Staiger, F.; Marchetti, B.; Foerster, C.; Erlbacher, T.
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研究方向

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合作学者
合作期刊
B
Barbara Marchetti
H 指数: 17 · 论文数: 160
B
Bernd Thomas
H 指数: 15 · 论文数: 81
F
F. Staiger
H 指数: 5 · 论文数: 8
D
Daniel Baierhofer
H 指数: 3 · 论文数: 5
E
Erlbacher, Tobias
H 指数: 0 · 论文数: 1
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