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Q
Qinzhen Hao
united states department of energy (doe)
4
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7
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51
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0
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1
发表时间
发表时间
IF
被引数
A transient site balance model for atomic layer etching
PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY
IF
3.3
2024-07-11
1
OA
AI
Vella, Joseph R.; Hao, Qinzhen; Elgarhy, Mahmoud A., I; Donnelly, Vincent M.; Graves, David B.
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研究方向
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合作学者
合作期刊
D
David B. Graves
H 指数: 75 · 论文数: 399
V
Vincent M. Donnelly
H 指数: 56 · 论文数: 273
J
Joseph R. Vella
H 指数: 11 · 论文数: 25
M
Mahmoud A. I. Elgarhy
H 指数: 5 · 论文数: 12
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