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Lanxia Cheng

university of texas system
H指数:21
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教育背景

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工作经历

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荣誉奖项

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Investigation of the Physical Properties of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposited Silicon Nitride as Etch Stopper

等离子体增强原子层沉积氮化硅作为刻蚀阻挡层的物理性能研究

2018-11-2832
PREAI