T
Thomas Gemming
H指数:60
被引数:1.4万
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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在200 mm晶圆上氧化锌薄膜的可调纹理:ALD中二甲基锌和二乙基锌前驱体的比较研究
通过原子层沉积制备大面积WS2层的结构化
原子和分子层沉积法制备Nd和Eu基氧化物及杂化薄膜:计算指导的先驱物选择
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IF12.1
扩展锌前驱体工具箱:用于热ALD法制备ZnO薄膜的前驱体比较研究
自组装无机纳米膜管:用于微声波基执行器和传感器的卷曲压电材料
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IF26.8
DALTON TRANSACTIONS
IF3.3
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Ca3TaGa3Si2O14 在不同气氛中高达1000 °C的高温稳定性
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IF22.3
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IF3.2
CORROSION SCIENCE
IF8.5

