M. A. Raadu

高功率脉冲反应磁控溅射Ti在Ar/N2气氛中的电离区域模型

大功率冲动磁控溅射中工作气体的稀薄

钨靶高功率冲动磁控溅射放电的建模

石墨靶高功率冲动磁控溅射放电的模拟

磁场对高功率冲动磁控溅射放电物理特性的影响

高功率冲动磁控溅射放电中电子能量分布函数的研究

基于高功率和低功耗混合脉冲的HiPIMS优化

通过调整高功率冲动磁控溅射中的脉冲长度来优化沉积速率和电离通量分数

双极HiPIMS用于调整薄膜沉积中的离子能量

关于三种不同的方法来量化溅射磁控管中的电离度

高功率冲动溅射磁控管的自溅射，工艺气体回收和失控的统一处理

反应性Ar/O2高功率冲动磁控溅射放电的电离区模型

在大功率冲动磁控溅射中自溅射的道路上: 粒子平衡和放电特性

关于溅射磁控管中的护套通电和欧姆加热

高功率冲动磁控溅射脉冲的气体稀薄和时间演化