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C

C. J. Dorow

intel corporation
H指数:7
被引数:383

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荣誉奖项

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Process integration and future outlook of 2D transistors

2D晶体管的工艺集成和未来展望

NATURE COMMUNICATIONS
IF15.7
2023-10-1228
OAAI
O'Brien, Kevin P.; Naylor, Carl H.; Dorow, Chelsey; Maxey, Kirby; Penumatcha, Ashish Verma; Vyatskikh, Andrey; Zhong, Ting; Kitamura, Ande; Lee, Sudarat; Rogan, Carly; Mortelmans, Wouter; Kavrik, Mahmut Sami; Steinhardt, Rachel; Buragohain, Pratyush; Dutta, Sourav; Tronic, Tristan; Clendenning, Scott; Fischer, Paul; Putna, Ernisse S.; Radosavljevic, Marko; Metz, Matt; Avci, Uygar

研究方向

暂未获取到该数据
U
Uygar E. Avci
H 指数:28论文数:83被引数:3,386
A
Ashish Verma Penumatcha
H 指数:16论文数:35被引数:4,305
S
Sudarat Lee
H 指数:9论文数:16被引数:450
A
Andrey Vyatskikh
H 指数:8论文数:15被引数:1,363
S
Scott B. Clendenning
H 指数:24论文数:144被引数:1,943
A
A. Kitamura
H 指数:6论文数:11被引数:241
P
Pratyush Buragohain
H 指数:16论文数:41被引数:1,334
S
Sourav Dutta
H 指数:22论文数:102被引数:2,075
M
Manuela Scarselli
H 指数:29论文数:144被引数:2,546
L
Lida Ansari
H 指数:16论文数:66被引数:1,063