Y
Yosuke Shimura
H指数:25
被引数:2,273
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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用GeCl4生长的应变弛豫SiGe层的外延生长(SiGe on nothing)
300毫米SiMOS代工厂制造器件的八量子比特操作
Nature Communications
IF15.7
利用机器学习和基于FPGA的射频反射测量技术快速自调谐SiGe量子点进入单电子态
工业兼容的硅自旋量子比特单元胞超过99%保真度
Nature
IF48.5
(Co,Ni)O固溶体对碱性溶液中乙二醇电氧化Pd催化剂的促进作用
ELECTROCHIMICA ACTA
IF5.6
应变松弛GeSn中扩展缺陷的电学性质

