M
Martin Čada
H指数:30
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个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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等离子体诊断及通过反应磁控溅射沉积功能化氧化锆薄膜
Vacuum
IF3.9
钒氧化物反应式高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)过程的等离子体表征
使用用于液态金属偏滤器应用的热钨阴极系统研究不同衬底上的等离子体-材料相互作用
Ni-Co氧化物在不锈钢网上的电化学沉积与低温空心阴极等离子体射流溅射:物理化学性质及其在挥发性有机化合物氧化中的活性
脉冲磁控溅射放电中,在氩氧混合气体中正负带电等离子体离子的能量分布及功能性ZnO薄膜的沉积(卷43,053002,2025)
SCIENTIFIC REPORTS
IF3.9
在通过傅立叶变换红外检测的Ar/H2/N2气体混合物中操作的脉冲空心阴极放电中产生氨
在氩/氧混合气体中使用钨阴极和正偏压阳极的磁控溅射放电中带负电和正电离子的能量分布
VACUUM
IF3.9
CATALYSTS
IF4
等离子喷射溅射是在不锈钢网上沉积镍和钴混合氧化物的有效方法: 应用于VOC氧化
CATALYSTS
IF4
CATALYSTS
IF4
氧化铟锡薄膜在电化学和光学无标记传感系统中的定制特性
用于等离子体离子能量控制的正偏置外部阳极: 空心阴极和磁控溅射放电

