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N. Nepomniashchaia

czech academy of sciences
H指数:6
被引数:108

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Energy distribution of positively and negatively charged plasma ions of a pulsed magnetron sputtering discharge in an argon/oxygen gas mixture and deposition of functional ZnO films (vol 43, 053002, 2025)

脉冲磁控溅射放电中，在氩氧混合气体中正负带电等离子体离子的能量分布及功能性ZnO薄膜的沉积（卷43，053002，2025）

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A
IF2.1
2025-12-010
PRE
Hippler, Rainer; Kapran, Anna; Wulff, Harm; Nepomniashchaia, Natalia; Remes, Zdenek; Olejnicek, Jiri; Cada, Martin; Hubicka, Zdenek

研究方向

暂未获取到该数据
M
M. Tyunina
H 指数:24论文数:158被引数:2,055
A
A. Dejneka
H 指数:37论文数:271被引数:4,510
T
T. Kocourek
H 指数:24论文数:156被引数:1,682
O
O. Pacherová
H 指数:16论文数:68被引数:863
J
J. Olejníček
H 指数:20论文数:144被引数:1,346
M
Martin Čada
H 指数:30论文数:167被引数:2,748
Z
Zdeněk Hubička
H 指数:35论文数:260被引数:4,448
R
R. Hippler
H 指数:43论文数:376被引数:7,419
Z
Z. Remeš
H 指数:32论文数:243被引数:3,564
V
Vetokhina, V.
H 指数:0论文数:3被引数:0