logo
科言猫学术研究的AI总结
language
手机端手机端
  • Phone Feature微信小程序
简体中文简体中文
notice消息通知
博客博客
delete
arrow
返回
T

Tobinc, PJ

机构信息待补充

0H指数
1论文数
0被引数
收录论文 1
发表时间
logo
Thermal stability and electrical characterization of HfO2 films on thermally nitrided Si
errJOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
IF3.3
err2004-01-01
err6
PREAI
errBastos, KP; Morais, J; Miotti, L; Soares, GV; Pezzi, RP; da Silva, RCG; Boudinov, H; Baumvol, IJR; Hegde, RI; Tseng, HH; Tobinc, PJ
err分享
err收藏

研究方向

暂时未获取到该数据
合作学者
合作期刊
R
R. P. Pezzi
H 指数: 59 · 论文数: 436
J
Jonder Morais
H 指数: 35 · 论文数: 184
R
R. I. Hegde
H 指数: 28 · 论文数: 93
H
H.‐H. Tseng
H 指数: 26 · 论文数: 88
H
H. Boudinov
H 指数: 21 · 论文数: 162
查看更多