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G. Pant
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发表时间最新
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IF最高
被引数最高
Stabilization of higher-κ tetragonal HfO2 by SiO2 admixture enabling thermally stable metal-insulator-metal capacitors
APPLIED PHYSICS LETTERS
IF
3.6
2007-08-14
67
PRE
AI
Mobility and charge trapping comparison for crystalline and amorphous HfON and HfSiON gate dielectrics
APPLIED PHYSICS LETTERS
IF
3.6
2006-12-13
24
PRE
AI
Comparison of electrical and chemical characteristics of ultrathin HfON versus HfSiON dielectrics
APPLIED PHYSICS LETTERS
IF
3.6
2006-07-19
37
PRE
AI
Effect of thickness on the crystallization of ultrathin HfSiON gate dielectrics
APPLIED PHYSICS LETTERS
IF
3.6
2006-01-17
52
PRE
AI
Ultrascaled hafnium silicon oxynitride gate dielectrics with excellent carrier mobility and reliability
APPLIED PHYSICS LETTERS
IF
3.6
2005-12-19
75
PRE
AI
Hydrogen and deuterium incorporation and transport in hafnium-based dielectric films on silicon
APPLIED PHYSICS LETTERS
IF
3.6
2004-10-18
18
OA
Low-temperature deposition of hafnium silicate gate dielectrics
IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS
IF
5.1
2004-01-01
14
PRE
AI
研究方向
暂未获取到该数据
合作学者
合作期刊
合作次数
合作次数
H指数
论文数
被引数
B
Bruce E. Gnade
H 指数:
41
论文数:
329
被引数:
9,748
R
Robert M. Wallace
H 指数:
91
论文数:
622
被引数:
4.6万
P
P. D. Kirsch
H 指数:
33
论文数:
205
被引数:
4,639
M
M. J. Kim
H 指数:
15
论文数:
39
被引数:
658
S
Sitaraman Krishnan
H 指数:
33
论文数:
146
被引数:
4,530
M
Manuel Quevedo-López
H 指数:
41
论文数:
342
被引数:
7,019
P
Prakaipetch Punchaipetch
H 指数:
13
论文数:
34
被引数:
470
A
A. Gnade
H 指数:
2
论文数:
4
被引数:
74
L
Luigi Colombo
H 指数:
61
论文数:
358
被引数:
5.2万
C
Carlos Driemeier
H 指数:
25
论文数:
99
被引数:
3,518