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A. Gnade

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Comparison of electrical and chemical characteristics of ultrathin HfON versus HfSiON dielectrics
APPLIED PHYSICS LETTERS
IF3.6
2006-07-1937
PREAI
Pant, G.; Gnade, A.; Kim, M. J.; Wallace, R. M.; Gnade, B. E.; Quevedo-Lopez, M. A.; Kirsch, P. D.; Krishnan, S.
Effect of thickness on the crystallization of ultrathin HfSiON gate dielectrics
APPLIED PHYSICS LETTERS
IF3.6
2006-01-1752
PREAI
Pant, G; Gnade, A; Kim, MJ; Wallace, RM; Gnade, BE; Quevedo-Lopez, MA; Kirsch, PD

研究方向

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R
Robert M. Wallace
H 指数:91论文数:622被引数:4.6万
B
Bruce E. Gnade
H 指数:41论文数:329被引数:9,748
P
P. D. Kirsch
H 指数:33论文数:205被引数:4,639
M
M. J. Kim
H 指数:15论文数:39被引数:658
G
G. Pant
H 指数:14论文数:32被引数:510
S
Sitaraman Krishnan
H 指数:33论文数:146被引数:4,530
M
Manuel Quevedo-López
H 指数:41论文数:342被引数:7,019
Q
Quevedo-Lopez, MA
H 指数:0论文数:1被引数:0