Q
Qimeng Jiang
H指数:27
被引数:3,126
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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采用N2退火原子层沉积SiNx栅介质提高AlGaN/GaN金属-绝缘体-半导体高电子迁移率晶体管的界面质量和稳定性
木质素热解中不同的催化途径: HZSM-5上的脱氧裂化与活性炭上的再聚合焦化
Polymers
IF4.9
10000-周期/10-μs短路操作在650-V E-Mode p-GaN栅高电子迁移率晶体管(HEMT)中的应用,该晶体管带有肖特基源扩展。
结构工程化的生物质衍生碳纳米片负载原子级分散的铁用于高效锌-空气电池
Sky-FET:一种选择性区域再生长GaN功率器件,具有增强的击穿电压
位错辅助的电子和空穴输运在GaN外延层中
Nature Communications
IF15.7
III族氮化物异质结构金属-绝缘体-半导体高电子迁移率晶体管的阈值电压不稳定性: 表征和界面工程
APPLIED PHYSICS REVIEWS
IF11.6
Al2O3栅介质体陷阱的抑制机理及其对Al2O3/AlGaN/GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管阈值电压不稳定性的影响
在GaN基金属-绝缘体-半导体电子器件中通过高温远程等离子体预处理有效抑制GaN表面上的非晶Ga2O和相关深能级
通过等离子体增强原子层沉积生长的SiOxNy界面层有效抑制SiNx/GaN金属-绝缘体-半导体结构中的深界面态和介电俘获
NANOMATERIALS
IF4.3
具有还原的氧化石墨烯固定的银纳米颗粒的三明治状壳聚糖基抗菌纳米复合膜
CARBOHYDRATE POLYMERS
IF12.5

