Chin-Wook Chung

高k/金属栅极和介电薄膜上碳基掩模的选择性刻蚀的电子温度控制

透明电光探头用于无创等离子体诊断

通过磁场约束和加速电压的低能电子束控制：对光刻胶刻蚀的影响

低能电子束的精确控制以实现对自由基密度的选择性控制

氦、氖和氩等离子体在高气压E模感应耦合等离子体中的异常电子密度

在直流偏置栅极的感应耦合氧等离子体中，加速电子对电负性的影响

在富氟Ar/CF4等离子体中实现垂直刻蚀形貌

NF3基等离子体与Y2O3和YF3涂层的相互作用研究：聚焦于污染物颗粒生成和壁面再沉积

通过超低电子温度等离子体实现低温刻蚀，在先进半导体纳米制造中增强各向异性

实验观测到由拉姆赛-汤森德效应引起的增强型电子回旋共振加热和非局域电子动力学现象，发生在超低电子温度等离子体中。

通过偏置感应耦合等离子体中的梯度磁场控制光刻胶刻蚀速率

利用超低电子温度等离子体对SiO2进行原子层刻蚀

梯度直流磁场对感应耦合等离子体轴向电子温度分布的控制

一种测量Ar/他混合物电感耦合等离子体中单个离子密度的方法

利用超低电子温度等离子体增强原子层沉积法制备TiN薄膜