L
Luca Panarella
H指数:5
被引数:80
个人简介
暂无内容
教育背景
暂无内容
工作经历
暂无内容
荣誉奖项
暂无内容
掺杂和沟道不均匀性对工业制备的WS2 FETs稳定性的影响
低温下MoS2纳米片的电荷输运区域：对低温电子学的启示
在WS2二维FETs的HfO2栅氧化层中观察到由局部机械应力诱导的完全可恢复的泄漏行为
2D Materials
IF4.3
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未登录个人简介暂无内容
教育背景暂无内容
工作经历暂无内容
荣誉奖项暂无内容
掺杂和沟道不均匀性对工业制备的WS2 FETs稳定性的影响
低温下MoS2纳米片的电荷输运区域：对低温电子学的启示
在WS2二维FETs的HfO2栅氧化层中观察到由局部机械应力诱导的完全可恢复的泄漏行为
研究方向