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Ling Yang
H指数:27
被引数:2,529
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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1.6 GW/cm<sup>2</sup>无金p-GaN栅极HEMT的Baliga优值,通过在6英寸Si上外延生长欧姆接触实现
高功率密度毫米波超薄InGaN沟道DH-HEMT器件
高PAE无金AlGaN/GaN HEMT器件及其面向5G应用的Al-Si合金栅极制备工艺
4.3-kV全垂直<italic>β</italic>-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>异质结势垒肖特基二极管,采用溅射p-GaN
基于电荷捕获的混合栅堆叠GaN MIS-HEMT的阈值电压分析模型
GaN自由-standing衬底上GaN HEMT的高可靠性与击穿电压
高性能环状p-GaN AlGaN/GaN HEMT器件,采用反应溅射NiNx栅极
Vacuum
IF3.9
一种具有高隔离度和宽带性能的串联-分流紧凑型GaN HEMT,适用于RF开关应用
一款具有近SPICE精度的电荷回收总线用超高速中压与时序分析仪
栅极导电机制和高阈值电压稳定性研究:基于Cu栅极的p-GaN HEMT
FUNDAMENTAL RESEARCH
IF6.3
通过原位TEM观察到电子辐照诱导的fi-Ga2O3外延单晶薄膜的非常规相变

