H
Hao Lu
H指数:16
被引数:757
个人简介
暂无内容
教育背景
暂无内容
工作经历
暂无内容
荣誉奖项
暂无内容
1.6 GW/cm<sup>2</sup>无金p-GaN栅极HEMT的Baliga优值,通过在6英寸Si上外延生长欧姆接触实现
宽禁带射频与电力电子器件的新进展:从材料创新到系统集成
高功率密度毫米波超薄InGaN沟道DH-HEMT器件
高PAE无金AlGaN/GaN HEMT器件及其面向5G应用的Al-Si合金栅极制备工艺
4.3-kV全垂直<italic>β</italic>-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>异质结势垒肖特基二极管,采用溅射p-GaN
基于电荷捕获的混合栅堆叠GaN MIS-HEMT的阈值电压分析模型
高耐久性粉煤灰-矿渣复合混凝土作为环境友好型修复材料的响应面优化
Materials
IF3.2
金刚石帽层GaN HEMTs在射频应用中的最新进展
Nanomaterials
IF4.3
用于射频开关应用的AlGaN/GaN hemt的RonCoff和功率压缩的结构相关参数折衷优化
GaN自由-standing衬底上GaN HEMT的高可靠性与击穿电压
表面共钝化用于实现宽禁带(1.7 eV)钙钛矿太阳能电池,以最小电压损失达到超过23%的效率
Science Bulletin
IF21.1
高功率密度X波段GaN-on-Si HEMT器件,采用无金低寄生欧姆接触,功率密度达10.2 W/mm
高性能环状p-GaN AlGaN/GaN HEMT器件,采用反应溅射NiNx栅极
Vacuum
IF3.9
氮化镓基电子器件中离子注入技术的最新进展
一种具有高隔离度和宽带性能的串联-分流紧凑型GaN HEMT,适用于RF开关应用
栅极导电机制和高阈值电压稳定性研究:基于Cu栅极的p-GaN HEMT
单晶SiC阳极氧化行为的微观研究: 阳极氧化电压的影响

