S
Su Min Hwang
H指数:12
被引数:457
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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镍在液态铜和CaO-SiO2-FetO-MgO熔渣之间的分布行为
原位分析气相法制备的Al基无机-有机杂化薄膜中电子诱导的化学转化,用于EUV抗蚀剂平台
在低温 (400 °C) 处理的基于Hf0.5Zr0.5O2的金属-铁电-金属电容器中,由压印现象引起的弛豫
以肼为氮源低温热原子层沉积氮化铝
MATERIALS
IF3.2
MATERIALS
IF3.2
等离子体增强原子层沉积氮化硅作为刻蚀阻挡层的物理性能研究
使用五氯乙硅烷的空心阴极等离子体增强氮化硅的原子层沉积
使用卤素基气体的高密度等离子体对Ta薄膜进行高度各向异性蚀刻
VACUUM
IF3.9
CH3COOH/Ar混合气体中CoFeB磁性薄膜的电感耦合等离子体反应离子刻蚀
VACUUM
IF3.9
使用CH3OH/Ar基感应耦合等离子体干法刻蚀Co2MnSi磁性薄膜
VACUUM
IF3.9
MgO薄膜在Cl2/Ar、CH3OH/Ar和CH4/Ar等离子体中的刻蚀特性
VACUUM
IF3.9

