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Marko Vehkamäki

university of helsinki
H指数:29
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Self-aligned patterning by area-selective etching of polymers and area-selective atomic layer deposition: Decreasing polymer flow and activating noncatalytic surface

通过聚合物区域选择性刻蚀和区域选择性原子层沉积的自对准图案化:降低聚合物流动并激活非催化表面

2026-05-010
PRE
Atomic Layer Deposition of PbS Thin Films at Low Temperatures

低温下PbS薄膜的原子层沉积

2020-09-1628
OAAI